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Dalian King Choice Non-Ferrous Metals Products Co., Ltd.
6años
Liaoning, China
Productos principales:Calentadores de tungsteno, objetivo de silicio, productos de tungsteno, productos de Ti, productos de molibdeno
Lo más elegido

Categorías del producto

Pistola de electrones de filamento de tungsteno EB de un solo cable Pureza 99.95% Evaporación de haz electrónico
$5.50-11
Min. Orden 20 unidades
Pistola de electrones de filamento de tungsteno EB de un solo cable Pureza 99.95% Evaporación de haz electrónico
$5.50-11
Min. Orden 20 unidades
Hoja de titanio puro Tamaño personalizado Productos de titanio Rectángulo 99.5% Gr1
$55-60
Min. Orden 5 kilogramos
Hoja de titanio de alta calidad Tamaño personalizado Productos de titanio Hoja rectangular
$50-55
Min. Orden 5 kilogramos
Ceramic Sputtering Targets
Todos los productos
Ceramic Sputtering Targets
Objetivo de pulverización de cerámica de fosfato de litio Li3PO4 de tamaño pequeño
$100
Pedido mín: 1 unidad
Prensa caliente Nb2Ox Objetivo de pulverización cerámica Alta pureza 4N 99.99%
$150-500
Pedido mín: 1 unidad
Objetivo de Al2O3 de cerámica de alta pureza 99.99% unido con placa de respaldo de cobre
$300-500
Pedido mín: 1 unidad
Objetivo de cerámica TiOx 99.95% HP Objetivo de pulverización personalizado
$850-1,000
Pedido mín: 1 conjunto
Objetivo de pulverización de cerámica de fosfato de litio Li3PO4
$300
Pedido mín: 1 unidad
Blanco de pulverización de cerámica de nitruro de boro, 3N 99.9%
$300-500
Pedido mín: 1 unidad
Prensa caliente de forma redonda Objetivo de pulverización de cerámica BN de alta densidad 3N 99.9% Objetivo de nitruro de boro
$120-200
Pedido mín: 1 unidad
Niobio Pentóxido Nb2Ox Sputtering Target 4N
$150-500
Pedido mín: 1 unidad
NiO de pulverización objetivo PVD 4N
$150-300
Pedido mín: 1 unidad
High Purity Sintering Al2O3 Cylinder Oxide Materials
$480-500
Pedido mín: 1 unidad
Colección Target Sputtering de cerámica 2N5-4N
$200-500
Pedido mín: 1 unidad
Recubrimiento al vacío Material Sputtering Target Market Si3N4
$500-1,000
Pedido mín: 1 unidad
TiN Cerámica Sputtering Target 2N5 Pureza
$190-200
Pedido mín: 1 unidad
CdS de cerámica de alta pureza, objetivo de pulverización de forma redonda
$400-600
Pedido mín: 1 unidad
Objetivo de cerámica SiO2 4N5 Superficie pulida Objetivo de pulverización catódica Forma redonda
$100-500
Pedido mín: 1 unidad
BaSrTiO3 Cerámica Sputtering Target Alta pureza 3N 99.9% Prensa caliente
$245
Pedido mín: 1 unidad